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半导体器件生产中所制备的二氧化硅薄膜属于（）。
A、结晶形二氧化硅
B、无定形二氧化硅
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长期吸入低浓度的游离型二氧化硅粉尘引起的矽肺，其病理类型多为（）；而长期吸入高浓度游离二氧化硅粉尘引起的矽肺，病理类型多为（）。
摩擦化学的方法增强贵金属表面的粘接强度，其操作步骤为()
A．贵金属表面形成二氧化硅涂层即可
B．贵金属表面形成二氧化硅涂层，再用硅烷偶联剂处理
C．贵金属表面用硅烷偶联剂处理，再形成二氧化硅涂层
D．贵金属表面用硅烷偶联剂处理
除盐水监督二氧化硅，是因为阴树脂对HSiO3-（）最小，交换能力也就最弱，当运行到终点时，最先泄漏出的就是二氧化硅。因此除盐系统均把二氧化硅升高做为失效终点。
A、交换容量
B、选择系数
C、排斥性
D、携带系数
